System dynamicznego ustawiania ostrości 3D
-
System dynamicznego ustawiania ostrości 3D-FR50-C
Zaawansowane zastosowania przemysłowe
Obsługiwana długość fali: 10640 nm, 10200 nm, 9400 nm
-
Seria AMPD - AM PRINCE
1 Cztery głowice w jednej Modułowa konstrukcja umożliwia łączenie w szereg
2. Czterokrotna gwarancja zapewniająca nieprzerwaną pracę w przypadku awarii
3. Projekt struktury redundantnej Dynamiczna alokacja danych
4. Projekt struktury redundantnej Dynamiczna alokacja danych -
3D Dynamic Focus System一FR10-F
Jednostki odchylania 3-osiowego
długość fali wsparcia: 1064 nm
Protokół XY2-100
pole robocze: 100*100mm i 200*200mm
znakowanie laserowe światłowodowe, grawerowanie laserowe 3D, trawienie laserowe
-
System dynamicznego ustawiania ostrości 3D FR20-F
Jednostki odchylania 3-osiowego
długość fali wsparcia: 1064 nm
Protokół XY2-100
pole robocze: 100*100mm do 600*600mm
Znakowanie na dużym polu, znakowanie 3D, trawienie powierzchni zakrzywionych, znakowanie PCB
-
System dynamicznego ustawiania ostrości 3D – FR30-F
Jednostki odchylania 3-osiowego
długość fali wsparcia: 1064 nm
Protokół XY2-100
wersja do znakowania powierzchni zakrzywionych i wersja do znakowania dużego pola jako opcje
przetwarzanie dużych pól roboczych z małą plamką
-
System dynamicznego ustawiania ostrości 3D – FR40-F
Jednostki odchylania 3-osiowego
długość fali wsparcia: 1064 nm
Protokół XY2-100
przetwarzanie dużych pól roboczych z małą plamką
W porównaniu do FR30-F, o 30% lepsza jakość ogniskowej
-
System dynamicznego ustawiania ostrości 3D – FR10-G
Jednostki odchylania 3-osiowego
długość fali wsparcia: 532 nm
Protokół XY2-100
pole robocze: 100*100mm do 600*600mm
Duże pola znakowania, znakowanie 3D, trawienie powierzchni zakrzywionych
-
System dynamicznego ustawiania ostrości 3D – FR20-G
Jednostki odchylania 3-osiowego
długość fali wsparcia: 532 nm
Protokół XY2-100
pole robocze: 100*100mm do 600*600mm
Duże pole znakowania, znakowanie 3D, trawienie powierzchni zakrzywionych, znakowanie precyzyjne
-
3D Dynamic Focus System一FR10-U
Jednostki odchylania 3-osiowego
długość fali wsparcia: 355 nm
Protokół XY2-100
pole robocze: 100*100mm do 600*600mm
Znakowanie na dużym polu, znakowanie 3D, trawienie powierzchni zakrzywionych, znakowanie PCB
-
System dynamicznego ustawiania ostrości 3D – FR20-U
Jednostki odchylania 3-osiowego
długość fali wsparcia: 355 nm
Protokół XY2-100
pole robocze: 100*100mm do 600*600mm
Duże pole znakowania, znakowanie 3D, trawienie powierzchni zakrzywionych, znakowanie precyzyjne
-
System dynamicznego ustawiania ostrości 3D – FR30-C
Jednostki odchylania 3-osiowego
obsługuje długości fal: 10640 nm, 10200 nm, 9400 nm
Protokół XY2-100
pole robocze: 300*300mm do 1600*1600mm
przetwarzanie dużych pól roboczych z małą plamką
-
System dynamicznego ustawiania ostrości 3D – FR70-C
Jednostki odchylania 3-osiowego
obsługuje długości fal: 10640 nm, 10200 nm, 9400 nm
Protokół XY2-100
przetwarzanie dużych pól roboczych z małą plamką
zaawansowane zastosowania przemysłowe, doskonała wydajność
maksymalne pole robocze 2000*2000mm
0,12 przy 3508350 mm przy 10640 nm
0,64@2000x2000mm@10640nm
oznakowanie bardzo dużego obszaru
znakowanie skóry z rolki na rolkę