3D dinamični sistem ostrenja
-
Sistem 3D dinamičnega ostrenja – FR30-F
3-osne odklonske enote
podporna valovna dolžina: 1064nm
Protokol XY2-100
različica za označevanje ukrivljenih površin in različica za označevanje velikih polj za možnosti
obdelava velikih delovnih polj z majhnim madežem
-
Sistem 3D dinamičnega ostrenja – FR30-C
3-osne odklonske enote
podporna valovna dolžina: 10640nm, 10200nm, 9400nm
Protokol XY2-100
delovno polje: 300 * 300 mm do 1600 * 1600 mm
obdelava velikih delovnih polj z majhnim madežem
-
Sistem 3D dinamičnega ostrenja FR20-F
3-osne odklonske enote
podporna valovna dolžina: 1064nm
Protokol XY2-100
delovno polje: 100 * 100 mm do 600 * 600 mm
Označevanje velikega polja, 3D označevanje, jedkanje ukrivljene površine, označevanje PCB
-
Sistem 3D dinamičnega ostrenja – FR70-C
3-osne odklonske enote
podporna valovna dolžina: 10640nm, 10200nm, 9400nm
Protokol XY2-100
obdelava velikih delovnih polj z majhnim madežem
vrhunska industrijska aplikacija, super zmogljivost
največ 2000 * 2000 mm delovno polje
0,12@3508350mm@10640nm
0,64@2000x2000mm@10640nm
označevanje super velike površine
roll to roll usnjeno označevanje
-
Sistem 3D dinamičnega ostrenja – FR40-F
3-osne odklonske enote
podporna valovna dolžina: 1064nm
Protokol XY2-100
obdelava velikih delovnih polj z majhnim madežem
V primerjavi s FR30-F 30 % boljša kakovost goriščne točke
-
Sistem 3D dinamičnega ostrenja – FR40-C
3-osne odklonske enote
podporna valovna dolžina: 10640nm.10200nm,9400nm
Protokol XY2-100
različica za označevanje ukrivljenih površin in različica za označevanje velikih polj za možnosti
obdelava velikih delovnih polj z majhnim madežem
Enaka hitrost FR30-C, 30 % boljša kakovost goriščne točke
lasersko snemanje, izrezovanje
-
Sistem 3D dinamičnega ostrenja – FR20-U
3-osne odklonske enote
podporna valovna dolžina: 355nm
Protokol XY2-100
delovno polje: 100 * 100 mm do 600 * 600 mm
Označevanje velikega polja, 3D označevanje, jedkanje ukrivljene površine, natančno označevanje
-
Sistem 3D dinamičnega ostrenja – FR20-G
3-osne odklonske enote
podporna valovna dolžina: 532nm
Protokol XY2-100
delovno polje: 100 * 100 mm do 600 * 600 mm
Označevanje velikega polja, 3D označevanje, jedkanje ukrivljene površine, natančno označevanje
-
Sistem 3D dinamičnega ostrenja FR15-F
3-osne odklonske enote
podporna valovna dolžina: 1064nm
Protokol XY2-100
3D tiskanje, aditivna proizvodnja
-
Sistem 3D dinamičnega ostrenja一FR10-U
3-osne odklonske enote
podporna valovna dolžina: 355nm
Protokol XY2-100
delovno polje: 100 * 100 mm do 600 * 600 mm
Označevanje velikega polja, 3D označevanje, jedkanje ukrivljene površine, označevanje PCB
-
Sistem 3D dinamičnega ostrenja – FR10-G
3-osne odklonske enote
podporna valovna dolžina: 532nm
Protokol XY2-100
delovno polje: 100 * 100 mm do 600 * 600 mm
Označevanje velikega polja, 3D označevanje, jedkanje ukrivljene površine
-
Sistem 3D dinamičnega ostrenja一FR10-F
3-osne odklonske enote
podporna valovna dolžina: 1064nm
Protokol XY2-100
delovno polje: 100*100mm in 200*200mm
lasersko označevanje vlaken, 3D lasersko graviranje, lasersko jedkanje