Sistema de enfoque dinámico 3D

  • Sistema de enfoque dinámico 3D – FR30-C

    Sistema de enfoque dinámico 3D – FR30-C

    Unidades de desviación de 3 ejes

    longitud de onda de soporte: 10640 nm, 10200 nm, 9400 nm

    Protocolo XY2-100

    campo de trabajo: 300*300 mm a 1600*1600 mm

    Procesamiento de grandes campos de trabajo con pequeñas manchas.

     

  • Sistema de enfoque dinámico 3D – FR30-F

    Sistema de enfoque dinámico 3D – FR30-F

    Unidades de desviación de 3 ejes

    longitud de onda de soporte: 1064 nm

    Protocolo XY2-100

    Versión de marcado de superficie curva y versión de marcado de campo grande para opciones

    Procesamiento de grandes campos de trabajo con pequeñas manchas.

     

     

  • Sistema de enfoque dinámico 3D FR20-F

    Sistema de enfoque dinámico 3D FR20-F

    Unidades de desviación de 3 ejes

    longitud de onda de soporte: 1064 nm

    Protocolo XY2-100

    campo de trabajo: 100*100 mm a 600*600 mm

    Marcado de campo grande, marcado 3D, grabado de superficies curvas, marcado de PCB

     

  • Sistema de enfoque dinámico 3D – FR70-C

    Sistema de enfoque dinámico 3D – FR70-C

    Unidades de desviación de 3 ejes

    longitud de onda de soporte: 10640 nm, 10200 nm, 9400 nm

    Protocolo XY2-100

    Procesamiento de grandes campos de trabajo con pequeñas manchas.

    Aplicación industrial de alta gama, súper rendimiento.

    Campo de trabajo máximo de 2000*2000mm

    0,12@3508350mm@10640nm

    0,64@2000x2000mm@10640nm

    marcado de área súper grande

    marcado de cuero rollo a rollo

  • Sistema de enfoque dinámico 3D – FR40-F

    Sistema de enfoque dinámico 3D – FR40-F

    Unidades de desviación de 3 ejes

    longitud de onda de soporte: 1064 nm

    Protocolo XY2-100

    Procesamiento de grandes campos de trabajo con pequeñas manchas.

    En comparación con el FR30-F, calidad del punto focal un 30 % más fina

  • Sistema de enfoque dinámico 3D – FR40-C

    Sistema de enfoque dinámico 3D – FR40-C

    Unidades de desviación de 3 ejes

    longitud de onda de soporte: 10640nm.10200nm,9400nm

    Protocolo XY2-100

    Versión de marcado de superficie curva y versión de marcado de campo grande para opciones

    Procesamiento de grandes campos de trabajo con pequeñas manchas.

    Velocidad igual a FR30-C, calidad de punto focal un 30% más fina

    filmación láser, troquelado

  • Sistema de enfoque dinámico 3D – FR20-U

    Sistema de enfoque dinámico 3D – FR20-U

    Unidades de desviación de 3 ejes

    longitud de onda de soporte: 355 nm

    Protocolo XY2-100

    campo de trabajo: 100*100 mm a 600*600 mm

    Marcado de campo grande, marcado 3D, grabado de superficies curvas, marcado de precisión

     

     

  • Sistema de enfoque dinámico 3D – FR20-G

    Sistema de enfoque dinámico 3D – FR20-G

    Unidades de desviación de 3 ejes

    longitud de onda de soporte: 532 nm

    Protocolo XY2-100

    campo de trabajo: 100*100 mm a 600*600 mm

    Marcado de campo grande, marcado 3D, grabado de superficies curvas, marcado de precisión

  • Sistema de enfoque dinámico 3D FR15-F

    Sistema de enfoque dinámico 3D FR15-F

    Unidades de desviación de 3 ejes

    longitud de onda de soporte: 1064 nm

    Protocolo XY2-100

    Impresión 3D, Fabricación aditiva

     

  • Sistema de enfoque dinámico 3D 一FR10-U

    Sistema de enfoque dinámico 3D 一FR10-U

    Unidades de desviación de 3 ejes

    longitud de onda de soporte: 355 nm

    Protocolo XY2-100

    campo de trabajo: 100*100 mm a 600*600 mm

    Marcado de campo grande, marcado 3D, grabado de superficies curvas, marcado de PCB

     

     

  • Sistema de enfoque dinámico 3D – FR10-G

    Sistema de enfoque dinámico 3D – FR10-G

    Unidades de desviación de 3 ejes

    longitud de onda de soporte: 532 nm

    Protocolo XY2-100

    campo de trabajo: 100*100 mm a 600*600 mm

    Marcado de campo grande, marcado 3D, grabado de superficie curva

     

  • Sistema de enfoque dinámico 3D 一FR10-F

    Sistema de enfoque dinámico 3D 一FR10-F

    Unidades de desviación de 3 ejes

    longitud de onda de soporte: 1064 nm

    Protocolo XY2-100

    campo de trabajo: 100*100mm y 200*200mm

    Marcado láser de fibra, grabado láser 3D, grabado láser