Productos
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Sistema de enfoque dinámico 2.5D
Sistema de enfoque dinámico Endfocus
Tamaño de apertura 10 mm, 15 mm, 20 mm
Grabado profundo, microprocesamiento de campo pequeño Elección prioritaria para microprocesamiento
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Sistema de enfoque dinámico 3D – FR70-C
Unidades de desviación de 3 ejes
longitud de onda de soporte: 10640 nm, 10200 nm, 9400 nm
Protocolo XY2-100
Procesamiento de grandes campos de trabajo con pequeñas manchas.
Aplicación industrial de alta gama, súper rendimiento.
Campo de trabajo máximo de 2000*2000mm
0,12@3508350mm@10640nm
0,64@2000x2000mm@10640nm
marcado de área súper grande
marcado de cuero rollo a rollo
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Sistema de enfoque dinámico 3D – FR40-F
Unidades de desviación de 3 ejes
longitud de onda de soporte: 1064 nm
Protocolo XY2-100
Procesamiento de grandes campos de trabajo con pequeñas manchas.
En comparación con el FR30-F, calidad del punto focal un 30 % más fina
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Sistema de enfoque dinámico 3D – FR40-C
Unidades de desviación de 3 ejes
longitud de onda de soporte: 10640nm.10200nm,9400nm
Protocolo XY2-100
Versión de marcado de superficie curva y versión de marcado de campo grande para opciones
Procesamiento de grandes campos de trabajo con pequeñas manchas.
Velocidad igual a FR30-C, calidad de punto focal un 30% más fina
filmación láser, troquelado
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Sistema de enfoque dinámico 3D – FR20-U
Unidades de desviación de 3 ejes
longitud de onda de soporte: 355 nm
Protocolo XY2-100
campo de trabajo: 100*100 mm a 600*600 mm
Marcado de campo grande, marcado 3D, grabado de superficies curvas, marcado de precisión
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Sistema de enfoque dinámico 3D – FR20-G
Unidades de desviación de 3 ejes
longitud de onda de soporte: 532 nm
Protocolo XY2-100
campo de trabajo: 100*100 mm a 600*600 mm
Marcado de campo grande, marcado 3D, grabado de superficies curvas, marcado de precisión
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Sistema de enfoque dinámico 3D FR15-F
Unidades de desviación de 3 ejes
longitud de onda de soporte: 1064 nm
Protocolo XY2-100
Impresión 3D, Fabricación aditiva
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Sistema de enfoque dinámico 3D 一FR10-U
Unidades de desviación de 3 ejes
longitud de onda de soporte: 355 nm
Protocolo XY2-100
campo de trabajo: 100*100 mm a 600*600 mm
Marcado de campo grande, marcado 3D, grabado de superficies curvas, marcado de PCB
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Sistema de enfoque dinámico 3D – FR10-G
Unidades de desviación de 3 ejes
longitud de onda de soporte: 532 nm
Protocolo XY2-100
campo de trabajo: 100*100 mm a 600*600 mm
Marcado de campo grande, marcado 3D, grabado de superficie curva
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Sistema de enfoque dinámico 3D 一FR10-F
Unidades de desviación de 3 ejes
longitud de onda de soporte: 1064 nm
Protocolo XY2-100
campo de trabajo: 100*100mm y 200*200mm
Marcado láser de fibra, grabado láser 3D, grabado láser
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Módulo de soldadura
Diseñado especialmente para aplicaciones de soldadura.
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Ajustador óptico
El ajustador óptico podría resolver la dificultad común de ajuste desde el desplazamiento óptico de la interfaz QCS.
Una vez ajustado exactamente al punto central.