Sistema de enfoque dinámico 2.5D
Grabado profundo, microprocesamiento de campo pequeño. Opción prioritaria para microprocesamiento.
Carcasa CNC, protección contra el polvo, estructura compacta, fácil de integrar.
Gracias a su diseño con refrigeración por agua opcional, puede aplicarse a requisitos de deriva a altas temperaturas.
Adopta la tecnología de control por modulación de ancho de pulso digital, lo que le confiere una mayor velocidad de respuesta y una menor deriva de temperatura.
FE10
FE15
FE20
Aspecto destacado: perforación, marcado de alta precisión
El punto focal se controla mediante el sistema óptico y es controlable por software, lo que reduce eficazmente el borde de colapso.
El enfoque dinámico permite la aplicación en superficies 3D.
No requiere elevación óptica mecánica, tiene una estructura simple y es fácil de automatizar, lo que mejora la eficiencia.
Alta eficiencia
El eje dinámico y el eje XY están totalmente coordinados por software, y la compensación de enfoque por capas se completa en microsegundos con alta eficiencia.
Alta precisión
Al cambiar la profundidad de procesamiento, el eje dinámico ajusta de forma coordinada la distancia focal y el punto central en tiempo real, lo que permite lograr una mayor precisión que con los cabezales de escaneo tradicionales.
Aspectos destacados de la aplicación
●Perforación
●Grabado
●Marcado de súper precisión
Perforación de vidrio (diferentes formas)
Marcado de precisión
Tallado profundo en material duro
Grabado (Herramienta de cuchillo)
Vídeo de la aplicación
Información técnica del producto
| Elementos | Voltaje de entrada (VCC) | ±15 |
| Corriente (A) | 10A | |
| Protocolo | Protocolo XY2-100 | |
| Condiciones de refrigeración | Medios de refrigeración | Agua destilada o desionizada más inhibidor de corrosión |
| Temperatura (°C) | 22-28 | |
| Presión de refrigeración recomendada (bar) | 2-3 | |
| Caudal recomendado (l/min) | 4-6 |
| Elementos | Voltaje de salida (VCC) | ±15 |
| Corriente (A) | 10A | |
| Protocolo | Protocolo XY2-100 | |
| Condiciones de refrigeración | Medios de refrigeración | Agua destilada o desionizada más inhibidor de corrosión |
| Temperatura (°C) | 22-28 | |
| Presión de refrigeración recomendada (bar) | 2-3 | |
| Caudal recomendado (l/min) | 4-6 |
| Línea de producción | línea de productos | FE10 | FE15 | FE20 |
| Peso (KG) | 5.6 | 6.7 | 9 | |
| Tamaño (mm) | 297*125*120 | 339*125*120 | 337*134*153,5 |
| Especificaciones del galvanómetro | FE10 | FE15 | FE20 | ||||||
| Versión | Estándar | Pro | P2 | Estándar | Pro | P2 | Pro | P2 | |
| Error de seguimiento (ms) | ≤0,18 | ≤0,18 | ≤0,18 | ≤0,21 | ≤0,21 | ≤0,2 | ≤0,28 | ≤0,27 | |
| Repetibilidad (μrad) | 8 | 8 | 5 | 8 | 8 | 5 | 8 | 5 | |
| Deriva de temperatura (μrad/k) | <100 | <100 | <50 | <100 | <100 | <50 | <100 | <50 | |
| Deriva a largo plazo (>24 h, temperatura ambiente) (mrad) | ≤0,2 | ≤0,2 | ≤0,1 | ≤0,2 | ≤0,2 | ≤0,1 | ≤0,2 | ≤0,1 | |
| Velocidad máxima de procesamiento (caracteres/s) (modo de alta calidad) | 600@100x100 | 650@100x100 | 500@100x100 | ||||||
| Temperatura de funcionamiento (°C) | 25℃±10℃ | ||||||||
| FE10 Especificaciones ópticas | Longitud de onda | 355 nm | 532 nm | 1064 nm | ||
| Tamaño de apertura (mm) | ≤10 mm | ≤10 mm | ≤10 mm | |||
| Opciones de ampliación de entrada | 2X | 2,66X | 2X | 2,66X | 1.16X | |
| Profundidad Z1) | ±5 mm / ±25 mm | |||||
| FE15 Especificaciones ópticas | Longitud de onda | 355 nm | 532 nm | 1064 nm | ||
| Tamaño de apertura (mm) | ≤15 mm | ≤15 mm | ≤15 mm | |||
| Opciones de ampliación de entrada | 2X | 2,66X | 2X | 2,66X | 1,66X | |
| Profundidad Z2) | ±5 mm / ±25 mm | |||||
| FE20 Especificaciones ópticas | Longitud de onda | 1064 nm | ||||
| Tamaño de apertura (mm) | ≤20 mm | |||||
| Opciones de ampliación de entrada | 2.1X | 2,57X | 2,66X | |||
| Profundidad Z3) | ±5 mm | |||||
1), 2), 3) Versión de distancia focal larga y corta como opción. Los datos del manual se basan en F-θ 254 bajo 150*150 mm.
Dibujo Mecánico
FE10
FE15
FE20
