3D Dynamic Focus System FR20-F

Description:

III-axis claudicatio signa

subsidium esse: 1064nm

XY2-100 protocol

opus agri: 100* 100mm ad 600* 600mm

Magni agri notati,3D notati, superficies curvae engraving, PCB notati

Mitte ad nos inscriptio

Product Detail

Product Tags

Aqua refrigerationem design

Libitum aquae refrigerationis consilium, potest applicari ad summus temperatus egisse requisita.

Consilium pactionis, facilis ad integrationem

CNC putamen, pulvis praeventionis, compages compacta, facile ad integrandum.

Facile mutandae operis agri

Commendatio nodi adhibetur ad commutandas inter varios campos operis sine cuiuslibet partibus reposito.

Ad libitum accessorium axis CCD moduli pro F20 sustentare potuit positionem, fabricationem, inspectionem, aestimationem in linea automationis.

Magnae Z altius superficiei curvae processus

Per systematis focus dynamicum imperium, Z-profundus 200mm attingere potest cum macula subtilis qualitatis sub 300* 300mm ad 600*600mm operis campi. Proprie convenit ambitu magnae altitudinis differentiae necnon magnae superficiei curvae processus et late usus est in eget interioribus et exterioribus accessoriis.

3D Superficies Processing

FR20-F imperium technologiae dynamicae applicat, limitationem notationis traditam frangit et nullam depravationem notare potest in superficie magna-scalae, 3D superficiei, gradus, superficiei pyramidis, superficiei clivi et aliis objectis.

Applicationem Highlight

●Magna agri vestigium

●3D sculpturae

● Welding

●Subtilitas Mold

●3D superficies curatio

● Scribing

Magna superficies curva agri

Subtilitas laser welding

Applicationem Video

Product Technical Information

Items	Output intentione (VDC)	±15VDC
	Current(A)	10A
	Protocol	XY2-100 Protocollum
	Pondus (KG)	12.5
	Magnitudo (mm)	346* 134* 183.5
Optical Specifications	Apertura Size(mmm)	20
Optical Specifications	Input trabem diametri (mm)	8.5

Galvanometer Specifications	Product linea	Standard	Pro	P2
	Scan Angle(°)	±11.25	±11.25	±11
	Repetitio (μrad)	8	8	5
	Max.Gain Drift (ppm/k)	100	100	50
	Max.Offset Drift(μrad/k)	30	30	15
	Long-term pereffluamus in 8h (mrad)	≤0.2	≤0.2	≤0.1
	Error tracking (MS)	≤0.28	≤0.28	≤0.2
	Max.processing celeritas (characteres / s)	400@200x200	400@200x200	500@200x200

Operantes Field & Macula Diameter	Opus Field (mm)	100x100x40	200x200x150	300x300x200	400x400x200	500x500x200	600×600x200
	Diameter Min.Spot@1/e2(mm)	0.0156	0.093	0.093	0.0462	0.093	0.093
	Longitudo arx (mm)	120	240	360	480	600	720